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产品详情与表格

四硫化物介孔二氧化硅(DMOS)

产品简介

介孔二氧化硅是一种具有独特孔道结构的纳米材料,其孔径介于2纳米到50纳米之间。这种材料因其高度有序的孔道结构、高比表面积、可调控的孔径和良好的化学稳定性,受到广泛科研工作者的应用开发,其孔道结构在药物递送上相比以往包覆型的二氧化硅生物利用率更高。本产品在介孔二氧化硅基础上引入了S-S-S-S键使其具备ROS和还原生物酶响应的能力,在ROS环境下DMOS能够实现生物降解效果,在还原性环境下如在GSH或DTT其能够在降解的同时释放H2S,而H2S也是作为一个生物化学科研工作者们的研究热点。

使用方法

药物搭载:称取5-10mgDMOS加入至5-10mL水中,在超声环境下分散5min后加入适量药物搅拌(实例:加入0.2mg/mL紫杉醇)。在4℃/室温搅拌12h后离心,用水洗涤后冻干。

灭菌处理方式

1. 在紫外光下照射DMOS 15-24h。

2. 在160℃下加热干热灭菌。

产品保存方式

室温/4℃保存。

产品表格
序号 货号 产品名称 产品简称 取代度 规格 分子量 原价 特价
1 SB190201-0.1g 四硫化物介孔二氧化硅(40-70nm) DMOS 40-70nm / 0.1g / 4000 2500
2 SB190202-0.05g 四硫化物介孔二氧化硅(40-70nm) DMOS 40-70nm / 0.05g / 2200 1400
3 SB190203-0.1g 四硫化物介孔二氧化硅(100-300nm) DMOS 100-300nm / 0.1g / 4000 2500
4 SB190204-0.05g 四硫化物介孔二氧化硅(100-300nm) DMOS 100-300nm / 0.05g / 2200 1400
5 SB190205-0.1g 四硫化物介孔二氧化硅(300-500nm) DMOS 300-500nm / 0.1g / 4000 2500
6 SB190206-0.05g 四硫化物介孔二氧化硅(300-500nm) DMOS 300-500nm / 0.05g / 2200 1400